1.控制試驗(yàn)時(shí)刻：在高溫環(huán)境下，石墨坩堝的氧化速度隨時(shí)刻的添加而加速。因而，應(yīng)盡量縮短高溫下的試驗(yàn)時(shí)刻。
    2.下降氧分壓：能夠通過在石墨坩堝內(nèi)加入一定量的還原劑，如純碳或硅粉等，下降氧分壓，減緩氧化速度。
    3.添加維護(hù)氣氛：在真空環(huán)境下運(yùn)用石墨坩堝時(shí)，能夠通過運(yùn)用惰性氣體來構(gòu)成維護(hù)氣氛，如氬氣、氮?dú)獾龋苊馐釄迮c氧氣接觸然后氧化。

想要了解更多石墨坩堝的內(nèi)容，可聯(lián)系從事石墨坩堝多年，產(chǎn)品經(jīng)驗(yàn)豐富的滑小姐：13500098659。